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苹果公司近期获得一项重要技术专利，标志着其面部识别系统 Face ID 在光学设计上的重大升级。这项新技术的核心在于将传统的衍射光学元件（DOE）替换为更先进的“超表面光学元件”（MOE），不仅提升了设备性能，还带来了更小的体积、更低的成本和更高的精度。

目前，Face ID 依赖于 DOE 技术，通过分束光形成点状图案，用于构建目标区域的三维模型。这种方案虽然已经非常成熟，但仍然存在优化空间。传统结构光投影模块通常由多个组件构成，包括 DOE 和准直透镜，它们共同作用以实现精确的光束分割与投射。尽管这些组件已经足够紧凑，能够安装在智能手机中，但在进一步缩小尺寸方面仍有挑战。

新专利展示的 MOE 设计方案，将原本需要多个部件完成的功能整合到一个扁平的光学元件中。这一创新使得投影模块的整体体积显著减小，同时简化了制造流程，降低了生产成本。更重要的是，它减少了装配过程中可能出现的误差，提高了产品的一致性和可靠性。

此外，MOE 技术还能动态调整投影模组的光轴角度，使其与摄像头的视野范围更加匹配。这有助于确保点状光斑均匀覆盖摄像头捕捉区域，从而提升 3D 识别的准确性。设备还可以根据使用场景切换不同的照明模式，例如点状照明和泛光照明，满足不同环境下的识别需求。

这一技术进步不仅体现了苹果在硬件研发方面的持续投入，也为未来智能手机在安全性和用户体验方面提供了更多可能性。随着 MOE 技术的逐步应用，Face ID 的表现有望进一步提升，为用户带来更快速、更精准的身份验证体验。